ＴＯＰ製品情報環境保全レーザー式ガス濃度モニターアプリケーション     レーザー式ガス濃度モニター   アプリケーション O2 ： 焼却炉、 産廃炉、ガス化溶融炉、転炉、鋼炉などの出口でのプロセスコントロール。塩化ビニル、石灰のガス化、化学、鉄鋼、アルミニウム溶融プラントなどでのモニタリング。 HCｌ ： 産廃炉・焼却炉のBF入口・出口でのプロセスコントロール。産廃炉・焼却炉、肥料、紙・パルプ、セメントプラントなどでのモニタリング。 NH3 ： 発電所のＳＣＲおよびＳＮＣＲ脱硝装置出口での残留NH3コントロール。発電所のEP出口での残留NH3コントロール。発電所、肥料プラントなどでのモニタリング。 HF ： アルミニウム炉における脱塩システムの効率コントロール。アルミニウム炉、産廃炉、煉瓦・瓦製造炉、肥料プラントなどでのモニタリング。 H2S ： 紙、石油化学プラントなどでのモニタリング。 HCN ： さまざまなプラントでのモニタリング。 CO ： 焼却炉、産廃炉、ガス化溶融炉、転炉、鋼炉などの出口でのプロセスコントロール。アルミニウム溶融、化学廃棄物プラントなどでのモニタリング。 CO2 ： 産廃炉などでのモニタリング。 H2O ： 産廃炉などでのモニタリング。 CH4 ： さまざまなプラントでのモニタリング。 本ページをA4サイズにプリントされる方は、用紙設定を適切なサイズに（80％程度）設定してプリントアウトしてください。 Copyright(c) 2000 SEIKA CORPORATION , ALL RIGHT RESERVED. ◎このホームページはNetscapeNavigator 4.0以上Internet Explorer 4.0以降のブラウザに最適化されています。